半導体素材国産化企業のラムテクノロジーが革新的な超高純度フッ化水素生産技術の開発を完了し、特許を取得したと22日、発表した。超高純度フッ化水素生産技術は、超高純度フッ化水素の従来の方式とは異なり、一度に液体と気体形態の超高純度フッ化水素を同時に生産できるのが特徴だ。
従来の方式は蛍石を持って蒸留法、電気分解法、吸着法、そして膜分離法などの多様な精製工程を通さなければならなかったが、ラムテクノロジーが開発した今回の生産方式はこのような前処理過程が省略される。
フッ化水素純度も高い。超高純度フッ化水素は99.9999%（6N）以上の純度の気体を意味するものと業界では認識している。 ラムテクノロジーの純度は、上記の超高純度フッ化水素は、十億分の一(ppb, part per billion, 10の9乗)以下、日照分の一(ppt, part pertrillion, 10の12乗)、千兆分の一(ppq, part perquadrillion, 10の15乗)以下の水準まで生産される。
純度数字で表記すれば純度99.999999999999%（15N）だ。 現存する超高純度フッ化水素の中で最も純度が高く、国内技術が日本技術をリードすることになった。フッ化水素（HF）は多様な産業分野で使われている。
上記のフッ化水素はフッ素化合物の中で最も普遍的に生産されており、無水(anhydrous)形態のフッ化水素及び超純水を含む水溶液(hydrous)状態のフッ酸状態で供給される。
工業用フッ酸のような低純度フッ酸は工業用途として使用されている。 半導体やディスプレーのエッチングや洗浄用途では超高純度のフッ酸が必要だ。 半導体製造工程用フッ酸に不純物が存在すると，エッチング及び洗浄時ウェハーに残留し、パターン形成欠陥 (Defect) の発生原因となる。 半導体生産歩留まりを低下する。
不良率を下げるために超高純度フッ化水素、その中でも金属不純物濃度が水pptに制御された純度12N（99.9999~9999~99%）以上の超高純度フッ化水素を使っている。 フッ化水素の純度を高めるほど精製コストが増加し、保管および取扱中の汚染に対する注意が求められ、生産効率および高純度フッ化水素で製品転換率が低いという欠点がある。
https://n.news.naver.com/mnews/article/277/0005003309?sid=101
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やっぱり詐欺でした。嘘がばれてラムテクノロジーの株価16%急落
https://n.news.naver.com/mnews/article/015/0004631824?sid=101
